Wasserstoff-Fluorsäure-Konzentrationsanalyser Automatische Online-Erkennung Langlebigkeit Wartungsfrei

Produktvorstellung

Wasserstoff-Fluorsäure-KonzentrationsanalyserDas Produkt verfügt über hohe Genauigkeit, SEMIG5-Klasse, hohe Temperaturbeständigkeit, langlebige Lichtquelle, thermostatische Detektoren und andere Merkmale mit einem Messbereich von 0-55%. Der Sensor verwendet die Struktur des ultrareinen PTFE / PFA-Zirkulationsbeckens in Kombination mit einem großflächigen Sapphir-optischen Prisma, um durch langfristige Technologieakumulation und Forschung und Entwicklung zu lösen, um das Problem der "Kartenhals" der Online-Messung der Konzentration von nassen elektronischen Chemikalien in der Halbleiterindustrie zu lösen.

Wasserstoff-Fluorsäure-KonzentrationsanalyserKeine Probenvorbehandlung, kein Reagenzverbrauch, schnelle Messungen in Sekunden, damit Unternehmen die Produktionsdynamik in Echtzeit beherrschen können. Es gibt keine mechanischen Bewegungen während der Prüfung, um langfristige Stabilität zu gewährleisten. Das Gerät verwendet eine Lichtquelle mit einer extrem langen Lebensdauer von bis zu 100.000 Stunden, und der Prüfprozess ist ohne mechanische Bewegung, um einen langfristigen stabilen Betrieb zu gewährleisten und Wartungskosten zu senken. Detektionsprisma für eine vollflache Struktur, um Schmutz zu vermeiden. Fabrikkalibrierung und automatische Temperaturkompensation ermöglichen den direkten Einsatz ohne aufwendige Einstellungen. Unterstützung für die Kommunikation auf dem PC, 4-20mA & RS485-Signalausgang, Alarm- und Steuerungssignalausgang, Unterstützung für Datenmodellierungsfunktionen und Anpassung des Datenmodells.

Anwendungsbereiche

Fluorwasserstoff-Konzentrationsanalyser werden hauptsächlich in Bereichen eingesetzt, in denen die Fluorwasserstoff-Konzentration überwacht und kontrolliert werden muss, darunter:

1. Halbleiterherstellung:

• Gravierungsprozess: Fluorwasserstoff-Säure wird bei der Halbleiterherstellung weit verbreitet als Gravierungsmittel zur Entfernung von Siliziumoxid, Siliziumnitrid und anderen Materialien verwendet. Die Kontrolle der Wasserstoff-Fluorsäure-Konzentration ist von entscheidender Bedeutung für die Kontrolle der Gravurgeschwindigkeit und die Gewährleistung der Gravurgleichmäßigkeit.

• Reinigungsprozess: Fluorwasserstoff wird auch zur Reinigung von Verunreinigungen und Rückständen von Wafer-Oberflächen verwendet. Die Konzentrationskontrolle beeinflusst ebenfalls den Reinigungseffekt und die Wafer-Qualität.

• Dopingprozess: In einigen Dopingprozessen wird Fluorwasserstoff zur Vorbehandlung von Wafer-Oberflächen verwendet.

2. Herstellung von Solarzellen:

• Silizium-Oberflächenbehandlung: Fluorwasserstoff-Säure wird zur Reinigung von Silizium-Oberflächen verwendet, um Oberflächenoxidschichten und Metallverschmutzungen zu entfernen und die Effizienz der photoelektrischen Umwandlung von Solarzellen zu verbessern.

• Flüssigkeitsbehandlung: Einige Solarzellenproduktionsprozesse verwenden Fluorwasserstoff-Säure zur Flüssigkeitsbehandlung der Siliziumoberfläche, um die Lichtabsorption zu erhöhen.

Herstellung von LCD und OLED:

• Reinigung von Glassubstraten: Fluorwasserstoff wird bei der Herstellung von LCD und OLED verwendet, um Glassubstrate zu reinigen, Oberflächenvereinigungen zu entfernen und die Anzeigequalität zu verbessern.

• Dünnfilm-Gravur: In einigen Dünnfilm-Prozessen wird Wasserstoff-Fluorsäure zur selektiven Gravur verwendet.

Chemische Analyselabor:

• Zubereitung von hochreinen Reagenzien: zur Herstellung von hochreinen Wasserstoff-Fluorsäure-Lösungen als wichtiges Reagenzien in analytischen chemischen Experimenten.

• Probenvorbehandlung: Fluorwasserstoff-Säure wird verwendet, um einige schwerlösliche Proben für die anschließende chemische Analyse zu lösen.

Elektronische Chemikalienproduktion:

• Qualitätskontrolle: Bei der Herstellung von Elektronik-Fluorwasserstoff-Säure muss die Produktkonzentration in Echtzeit überwacht werden, um sicherzustellen, dass die Produkte den Qualitätsstandards entsprechen.

• Prozessoptimierung: Optimieren Sie den Produktionsprozess durch die Messung von Konzentrationsdaten und verbessern Sie die Produktreinheit und den Ertrag.

6. Forschungseinrichtungen:

• Materialforschung: zur Untersuchung des Korrosionsverhaltens von Fluorwasserstoff-Säure für verschiedene Materialien und zur Referenz für die Entwicklung neuer Materialien.

• Chemische Reaktionsforschung: Die Untersuchung verschiedener chemischer Reaktionen, an denen Wasserstoff-Fluorsäure beteiligt ist, wie z. B. Fluorierung.

technische Parameter