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Suzhou Quelle Wasser Reinigung Equipment Co., Ltd.
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Elektronikfabrik Reinraum | Staubfreier Raumbau

VerhandlungsfähigAktualisieren am05/10
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Übersicht

Elektronikreinraum-Engineering ist ein hochpräzises Projekt, das durch die Kontrolle von Luftreinheit, Temperatur, Feuchtigkeit, Druck und anderen Parametern für eine bestimmte Industrie staubfrei, steril und umweltfreundlich ist. Im Folgenden sind die Kernpunkte der Reinraumtechnik: $r$n$r$n---$r$n$r$n1. Reinraumklassifizierung $r$n- nach Reinigungsstufe (ISO-Standard): $r$n - ISO-Stufe 1-3: sehr hohe Standards (z. B. Chipfertigung). $r$n - ISO-Klasse 4-5: Halbleiter, Präzisionselektronik. $r$n - ISO-Klasse 6-8: Medizinische sterile Herstellung, Medizinprodukte. $r$n - ISO-Stufe 9: Allgemeine Industrie oder Nebengebiete

Produktdetails

Elektronikfabrik Reinraum | Staubfreier RaumbauAuswahl eines systematischen Entscheidungsrahmens und Umsetzungspunkte für ein Cleanroom-Bauprogramm in Kombination mit Industriespezifikationen für Präzisionselektronik und typischen Fallanalysen:

Einer,Elektronikfabrik Reinraum | Staubfreier RaumbauKlare Kernparameter des Prozesses

Clean Level-Übereinstimmung

Bestimmung nach ProduktionsprozessanforderungenISOKlasse: wie Halbleiter-Lithographie benötigt Tausend Grade (ISO 5),SMTPflaster für alle Klassen (ISO 6Normale elektronische Montage kann auf 100.000 Niveaus entspannt werden (ISO 7).

Kontrolle der Partikelkonzentration durch die Anzahl der Luftwechsel, z. B. Tausende Reinraum Luftwechsel ≥300Nächster/Stunden, effiziente Filter müssen bedeckt werden ≥80%Dachbereich.

Umweltkontrollindikatoren

Temperatur- und Feuchtigkeitseinstellung: Halbleiterwerkstatttemperatur22±2℃, Feuchtigkeit45±5%PCB-LeiterplattenDer Workshop kann sich entspannen24±1℃, Feuchtigkeit50±10%.

Druckdifferenzgradient: Druckdifferenz zwischen sauberer und nicht sauberer Zone ≥5Pa≥ zwischen den verschiedenen Ebenen3Pa.

2. Schlüsselwahl der Systemgestaltung

Luftreinigungssystem

Dreistufige Filterung (Anfangseffekt)G4+MitteleffektivF8+effizientH13In Kombination benötigen Halbleiterwerkstätten zusätzliche chemische Filter zur Behandlung von sauren Gasen.

Die Luftströmungsorganisation wird vorrangig nach unten in die vertikale Schicht zurückgeschickt.FFUAbdeckung ≥60%Steigerte Reinigungsstabilität30%.

Antistatische und korrosionsbeständige Behandlung

Boden mit antistatischer Epoxid-Selbstfluss (Widerstandswert)1×10^6~1×10^9Ω) oderPVCRollen, Wände mit antistatischer Stahlplatte (Oberflächenwiderstand ≤1×10^9von Ω).

Säure-Alkali-Abgasleitung316LEdelstahl, Schweißhelium ≤1×10^-9 Pa·m³/ s.

Drei,Elektronikfabrik Reinraum | Staubfreier RaumbauOptimierung von Material- und Konstruktionsprozessen

Kategorie‌‌Bevorzugte Programme‌‌Technische Indikatoren

Umhüllungsstruktur50 mmFeuerfeste Baumwolle Stahlplatte Brandschutz1Klasse, Schalldämmung ≥30dB

Türen und Fenster Doppeltes Hohlglas+Luftdichte Klebstreifen Leckage ≤0,1 m³/(h)·m²)

Leitungsinstallation Galvanisiertes Stahlblech+ PEFFlammschutz Leitrate ≤1%

Bodenbau Epoxid-Self-Streaming-Schichtgießen Integrität ≤2mm / 2m

Vier,Elektronikfabrik Reinraum | Staubfreier RaumbauBauprozesskontrollpunkte

Modulare Bauprozesse

Teilen32Einheit synchrone Konstruktion, Stahlplatte Installationsfehler ≤ ±3 mm, Deckenplatte-Schnittnaht≤2mm.

Nach Fertigstellung der vorgelagerten Leitungen wird die Reinigung durchgeführt, um das Kreuzverschmutzungsrisiko zu verringern.

Saubere Kontrollmaßnahmen

Einrichten Sie einen Vorreinigungsbereich, wischen Sie die farbigen Stahlplatten vor dem Eintritt mit Isopropanol, und das Baupersonal trägt gemeinsame Staubschutzkleidung.

Dynamische Überwachung der Anzahl der suspendierten Partikel, wobei die Konzentration der Partikel während des Baus den Designwert nicht überschreitet30%.

Kosten- und Energieeffizienzgleichgewichtsstrategie

Optimierung der Geräteauswahl

Klimaanlage mit Frequenzwechselsteuerung+Wärmerückgewinnungsanlagen, Gesamte Energieeffizienz (EER(Erhöhung auf4.3Energieeinsparung22%.

Wahl des BeleuchtungssystemsLEDsFlachbildlampe, Leistungsdichte ≤8 W/㎡, Lebensdauer ≥5Tausende Stunden.