SENTECH Chemische Gasphase Ablagerung (Vorvakuumkammer)

Prozessflexibilität

Die PECVD-Ablagerungsanlage SI 500 PPD ermöglicht die Standardablagerung von chemischen Gasen für SiO2, SiNx, SiOxNys und a-Sis im Temperaturbereich von Raumtemperatur bis 350 °C.

Vorvakuumkammer

Die SI 500 PPD verfügt über Vorvakuumkammern und Trockenpumpenanlagen für ölfreie, leistungsstarke und saubere chemische Gasabscheidungsprozesse.

SENTECH Steuerungssoftware

Leistungsstarke Benutzeroberflächenfreundliche Software umfasst analoge grafische Benutzeroberfläche, Parameterfenster, ProzesseRezeptBearbeiten Sie Fenster, Datenprotokolle und Benutzerverwaltung.

SI 500 PPD steht für Plasma-verstärkte chemische Gasphase-Ablagerungsgeräte für die Ablagerung von Medienmembranen, nicht kristallinem Silizium, Siliziumcarbid und anderen Materialien. Es basiert auf einer Flachplatten-kapazitiv gekoppelten Plasmaquelle, einem Vorvakuumkammer, einer thermogesteuerten Substratelektrode, einer optionalen niederfrequenten RF-Quelle, einem vollautomatisch gesteuerten ölfreien Vakuumsystem, der SENTECH-Steuerungssoftware, der Fernfeldbus-Technologie und einer benutzerfreundlichen universellen Schnittstelle für den Betrieb des SI 500 PPD.

SI 500 PPD Plasma-Ablagerungsanlage, die ausgroßChips mit bis zu 200 mm Durchmesser zu Teilen, die auf dem Träger geladen werden. Ein Single-Chip-Vorvakuumkammer gewährleistet stabile Prozessbedingungen und ermöglicht einen einfachen Umschaltprozess.

Die SI 500 PPD Plasmaverstärkte Ablagerungsanlage dient zur Ablagerung von SiO2-, SiNx-, SiONx- und a-Si-Folien im Temperaturbereich von Raumtemperatur bis 350 °C. Mit flüssigen oder gasförmigen Vorläufern bietet die SI 500 PPD eine Lösung für die Ablagerung von TEOS, SiC und anderen Materialien. SI 500 PPD eignet sich besonders für die chemische Gasphase-Ablagerung für Gravurmasken, Passivierungsfilmen, Wellenleiter und andere Medienmelegane und nichtkristallisches Silizium.

SENTECH bietet verschiedene Automatisierungsgraden, von der Vakuumkasse bis hin zu einer Prozesskammer oderbisMehr als sechs Prozessmodulanschlüsse für verschiedene Ätz- und Seditionsprozessmodule zur Zusammensetzung mehrkahlriger Systeme mit hoher Flexibilität oder hoher Ertragsfähigkeit. Der SI 500 PPD kann auch als Prozessmodul in einem mehrkahligen Ablagerungssystem eingesetzt werden.

SI 500 PPD:

• Plasma-chemische Gasabscheidungsgeräte

• Vorvakuumkammer

• Für Chips von bis zu 200 mm

• Unterlagen von Raumtemperatur bis 350 °C

• Optionale Niedrigfrequenzspannungsreduzierung

• Flüssige Vorläufer zur Abscheidung von TEOS

• Trockenpumpenserie