Plasmagraviermaschine SENTECH RIE Deutschland

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SENTECH Instruments (Deutschland) GmbH ist ein führender internationaler Hersteller von Halbleitergeräten, der die Entwicklung, Herstellung und den Vertrieb von Dünnfilmmessgeräten PECVD und Plasmaprozessgeräten entwickelt.

Produktdetails

KosteneffektivYi Hoh

Die RIE-Plasmaätzmaschine Etchlab 200 kombiniert eine parallele Plasmaquellen-Konstruktion mit einer direkten Stücksetzung.

Erweiterte Skalierbarkeit

Aufgrund ihres modularen Designs kann die Plasmaätzmaschine Etchlab 200 auf größere Vakuumpumpen, Vorvakuumkammern und weitere Luftwege aufgerüstet werden.

SENTECH Steuerungssoftware

Die Plasmagraviermaschine ist mit benutzerfreundlicher und leistungsstarker Software ausgestattet, mit analoger grafischer Benutzeroberfläche, Parameterfenstern, ProzessBearbeiten Sie Fenster, Datenprotokolle und Benutzerverwaltung.

Etchlab 200RIE PlasmagraviermaschineRepräsentiert die Familie der Plasmagravierer mit Direktplatzierung, kombiniert sie die Vorteile des parallelen Plattenelektrodendesigns von RIE und des kostengünstigen Designs der Direktplatzierung. Etchlab 200 zeichnet sich durch eine einfache und schnelle Probenbeladung aus, von Teilen auf Chips mit einem Durchmesser von 200 mm oder 300 mm direkt auf die Elektrode oder den Träger geladen. Flexibilität, Modularität und geringe Fläche sind die Konstruktionsmerkmale des Etchlab 200. Die Diagnosefenster an der oberen Elektrode und der Reaktionsräume können bequem SENTECH-Laserinterferometer oder OES- und RGA-Systeme aufnehmen. Die Elliptionsanschlüsse können für in situ überwachte SENTECH-Elliptionsgeräte verwendet werden.

Die Etchlab 200 Plasmaätzmaschine kann konfiguriert werden, um Materialien mit direkter Belastung zu gravieren, einschließlich, aber nicht beschränkt auf Silizium und Siliziumverbindungen, Verbindungshalbleiter, Medien und Metalle.

Etchlab 200Bedienung durch die SENTECH-Steuerungssoftware unter Verwendung der Fernfeldbus-Technologie und einer benutzerfreundlichen universellen Benutzeroberfläche.

Etchlab 200:

RIE Plasmaätzmaschine
Design der Deckel
Für Chips mit 200 mm
Diagnosefenster für Laserinterferometer und OES
Optionale Elliptometer-Schnittstelle

Etchlab 200 mit Vorvakuumkammer:

RIE-Graver mit Vorvakuumkammer
Für Chips von 4 Zoll bis 8 Zoll
Träger von kleinen Stücken oder Fragmenten
Chlorbasiertes Erosionsgas
Größere Vakuumpumpen

Etchlab 200 bis 300:

RIE Plasmaätzmaschine
Design der Deckel
Für Chips mit 300mm
Diagnosefenster für Laserinterferometer und OES

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