Das PHABLE-Ger?t basiert auf der von Eulitha eingesetzten Displaced Talbot Lithography (DTL)-Technologie und bietet eine hochaufl?sende Lithographie mit einem kostengünstigen Lithographiesystem. DTL überwindet die Einschr?nkungen der Diffraktion in der herk?mmlichen Lithographie, um Submikrometer-Zyklusmuster von hoher Qualit?t zu belichten. Die berührungslose Belichtung schützt sowohl die Maskenplatte als auch die Wafer, w?hrend die fokusslose Bildgebungstechnologie eine gleichm??ige Belichtung auf nicht flachen Substraten und dicken Lichtgravuren erm?glicht.